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产品中心半导体电子设备硅片扩散超声波清洗机LC硅片超声波清洗机
产品简介
硅片超声波清洗机硅片扩散超声波清洗机该设备用于晶圆片扩散、蒸发、CAV生产前的清洗处理。该机共有六种清洗方式可供选择，清洗程序为纯水清洗、胆碱清洗、冷热纯水冲洗、酸洗（HF）、纯水清洗
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硅片超声波清洗机 概述：
该设备用于晶圆片扩散、蒸发、CAV生产前的清洗处理。该机共有六种清洗方式可供选择，清洗程序为纯水清洗、胆碱清洗、冷热纯水冲洗、酸洗（HF）、纯水清洗。其工艺性能指标及可靠性*达到进口同类设备水平，但价格、售后服务、备品备件的供给等是进口设备*的。
硅片超声波清洗机 主要特点：
·采用进口PP板制作。
·适用2-6寸硅片清洗。
·超声功率强劲，性能稳定。
·超声波采用效率高发生器，功率可调。
·采用高频超声波频率。
·慢拉脱水、循环热风干燥方式，替换传统的溶剂脱水，既安全又环保。
·设有循环过滤系统。
·多槽超声波清洗工艺，保证清洗效果。
硅片超声波清洗机 的超声波强的洗净作用，是以超过人类听觉声频以上的波动在液体中传导。当声波在洗剂中传播时，由于声波是一种传播，纵波推动介质的作用会使液体中压力变化而产生无数微小真空泡，称之为“空穴效应”。
当气泡受气压爆破时，会产生强大的冲击能，可将固着在物件死角内的污垢打散，并增强洗净的洗净效果，由于超声波偏离高波长短，穿透力强，因此对有隐蔽细缝或复杂结构的清洗物，可以达到良好的洗净效果。
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